华为余承东：EUV光刻设备是制造先进芯片的关键，中国目前正在研发
华为高管余承东在媒体圆桌会议上表示，EUV光刻设备对制造先进芯片至关重要。中国正在研发相关设备，但现阶段仍依赖DUV光刻。他还称，华为通过系统级优化和LogicFolding技术，弥补获取更先进制造工艺受限带来的不足。相关技术说法及对未来芯片密度的预测来自华为，尚未得到独立验证。
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